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SP1设备解决方案
Archer 10 设备解决方案
Archer200设备解决方案
固态激光器升级解决方案
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SP1设备解决方案
无图案晶圆检测系统 Surfscan® SP1TBI Pro 和 SP1DLS Pro 系统是业界公认的无图案晶圆检测的主力工艺控制系统,适用于射频、汽车、SiC、GaN、LED等新兴技术。在整个半导体生态系统中,为衬底、IC、设备和材料制造商提供所需的工艺和设备的认证与监测。 SP1TBI 和 SP1DLS Pro系统都以成功的Surfscan®平台为基础,旨在实时捕获裸晶圆、光滑和粗糙薄膜和堆叠、光阻和光刻堆叠上的关键缺陷,并对其进行分类。 通过及早发现和识别这些关键缺陷和表面质量问题,Surfscan SP1 Pro系统能够更快地识别工艺和设备问
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Archer 10 设备解决方案
Archer™ 10XT+光学套刻量测 套刻量测系统为各种不同类型、尺寸、材料、厚度的衬底提供稳定、准确、可靠和可重复的套刻对准及CD测量。可为生产IoT、汽车、μLED和移动领域产品的半导体制造厂提供所需的快速、可重复和系统间匹配等性能; 设备性能: 1、高产量可以实现经济有效的套刻工艺监控,并促进大批量生产; 2、拥有先进的对准显微镜系统和可变光学照射系统配合适用于高、低不同对比度的工艺层测量。 3、支持Si、SiC、GaN、石英、玻璃、GaAs和其他透明材质的晶圆衬底。 5D Analyzer®: 可定制的模型和分析方案可为您晶圆厂内的所
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Archer200设备解决方案
Archer™ 200套刻量测系统 Archer 200 套刻量测系统为各种不同类型、尺寸、材料、厚度的衬底上提供稳定、准确、可靠和可重复的套刻对准及CD测量。可为生产IoT、汽车、μLED和移动电话领域的产品的晶圆厂提供所需的快速、可重复和系统间匹配的性能及高产量可以实现经济有效的套刻工艺监控,并促进大批量生产先进的对准显微镜系统和可变光学照射系统配合,适用于高、低不同对比度的工艺层测量支持Si、SiC、GaN、石英、玻璃、GaAs和其他透明材料的晶圆衬底。 5D Analyzer®: 可定制的模型和分析菜单为晶圆厂内的所有步进式、扫描式光刻机提供准确的校正。多元化
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固态激光器升级解决方案
气态激光器升级固态激光器 解决方案 气态雷射 (Gas lasers)   气体雷射由于其物态固有的特性,所以有些因此而产生的特征; 优点:气体分子分布均匀、能阶较单纯,所以气体雷射的光质量在均匀性和同调性方面都较佳,早期精密量测通常采用之。缺点:因气体密度最低,要得到瞬间的脉冲高峰值功率比较难。 固态雷射(Solid state lasers) 固体雷射是以固体当活性介质,大部分是将具有产生受激发射作用的离子掺入玻璃或晶体中,以人工方法制造而成。一般说来,固体雷射由于其物态固有的特性,所以有些因此而产生的特征: 1、优点:固
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微环境解决方案
超洁净解决方案 随着半导体芯片关键线宽尺寸缩减,从早期的微米(μm)级别发展至今的纳米(nm)级别,芯片制造对洁净度的要求越来越高,如果在生产过程中空气洁净程度达不到要求,产品的良品率会受到很大的影响。集成电路产业链几乎所有的主要环节,从单晶硅片制造、到IC制造及封装,都需要在洁净室中完成,对于洁净度的要求高。 为维持洁净室的洁净度,半导体洁净厂房通常采用垂直单向流的方式,通过推出作用,将室内污染的空气排至室外,从而达到净化空气的目的。 如:SP1/SP2等晶圆检测设备环境需恒温恒湿洁净间净化等级为ISO Class5(100)级,温度精度为22±1℃,湿
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